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四氟化硫 SF4 (Sulfur tetrafluoride)
———CAS: 7783-60-0 純度: 99%用途：廣泛應用的最有效的選擇性有機氟化劑，它能將羰基和羥基選擇性地氟化(取代含羰基化合物中的氧)；在精細化工廣泛應用于高檔液晶材料和高端醫藥、農藥工... -
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四氟化碳 CF4 (Carbon tetrafluoride)
———CAS: 75-73-0 純度: >99.999%用途：電子工業中等離子蝕刻、電子器件表面清洗、印刷電路的去污劑；制冷劑；電力行業的電氣絕緣和滅弧材料；太陽能電池的生產等。 -
六氟化硫 SF6 (Sulfur hexafluoride)
———CAS: 2551-62-4 純度: >99.999%用途：用作高壓開關、大容量變壓器、高壓電纜和氣體的絕緣材料。采礦工業用作反吸附劑，用于礦井煤塵中置換氧。高純SF6還因其化學惰性、無毒、不燃及無腐蝕... -
六氟乙烷 C2F6（hexafluoroethane）
———CAS: 76-16-4 純度: >99.999%用途：六氟乙烷可用于一種具多功能的蝕刻技術，常見于半導體之生產。它可用于金屬硅化物及金屬氧化物并相對其金屬基質的選擇性蝕刻。叧外，它亦用于蝕刻硅上... -
笑氣 N2O（nitrous oxide；Laughing gas）
———CAS: 10024-97-2 純度: >99.9995%用途：醫用麻醉劑，火箭推進劑，賽車加速助燃劑，殺蟲滅菌劑。在集成電路器件、IC 卡、LED、微電子、光伏等行業中也有廣泛應用。 -
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三氟甲烷 CHF3（Trifluoromethane；Freon23）
———CAS: 75-46-7 純度: >99.999%用途：用作低溫(-100℃)制冷劑，電子工業等離子體化學蝕刻劑及氟有化合物的原料、致冷劑、滅火劑替代品。 -
